供应
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产品详情
日本AMAYA株式会社天谷制作
高清光掩模兼容的旋转式清洗设备伍尔夫系列
与高清光掩模兼容的旋转式清洗设备
清洁溶液高速扩散到清洁表面
快速消除异物和反应产物
无水痕干燥
随着LSI变得越来越复杂，光掩模/光罩需要更高的清晰度和准确性。 我们的清洗设备有助于这些产品的高清洁度和产量提高，并合作生产更完整的产品。
配备使用功能水的旋转清洗单元，该单元可以通过工件旋转的离心力、臭氧水和添加氨的氢水排放去除有机物、金属离子和异物，直至检测极限水平。 通过切换和清洁每个清洁溶液，可以高速去除工件上的不纯沉积物，废液管理也是一种**的环境响应工具。
采用
替代RCA清洗液的清洗液和清洗方法 SPM→臭氧水 ・实现完整的室温清洗（无需高温工艺） ・减少口罩
上化学溶液的残留量
・更**的废液处理（ISO14000措施）
SC-1 → 氢水加氨
・MoSi半色调掩膜的蚀刻预防
| PSM *终清洁（无 SPM） | |||
|---|---|---|---|
| 类别 | 不。 | 项目 | 规范 |
| 空白 | 1 | 无颗粒 | >32纳米 |
| 2 | 预置% | ≧95% | |
| 图像层 （图案侧） | 3 | QZ 上的剩余软缺陷 | ≧0.05微米 （产率 ： 98%） |
| 4 | 移位器上剩余的软缺陷 | ≧0.05微米， ≦10个 （产率 ： 98%） | |
| 5 | SRAF（深色）缺失 | 没有遗漏 | |
| 6 | 图案损坏、静电放电、划痕 | 无损坏 | |
| 7 | 换档器变化（相位） | ≦-0.2 度，平均清洁 10 倍 | |
| 8 | 换档器（变速器） | ≦0.025%，平均清洁 10 倍 | |
| 9 | 换档器（CD 平均值） | ≦0.15nm，平均清洁度为10倍 | |
| 10 | 换档器（CD 范围） | ≦0.5nm，平均清洁度为10倍 | |
| 离子残基 | 11 | 化学残留物 （SO4） | ≦0.5 ppb |
| 12 | 化学残留物（NH4） | ≦17.0 ppb | |
| 清洗装置本体 | 7300毫米（宽） x 1410毫米（深） x 2300毫米（高） |
|---|---|
| 电源箱 | 1400毫米（宽） x 500毫米（深） x 2150毫米（高） |
| 化学溶液盒 | 2500毫米（宽） x 700毫米（深） x 2000毫米（高） |
| 过滤器框 | 2600毫米（宽） x 700毫米（深） x 2000毫米（高） |
| 热滴机组 | 1250毫米（宽） x 550毫米（深） x 1750毫米（高） |
| 氢水和碳酸水装置 | 1050毫米（宽） x 1500毫米（深） x 2000毫米（高） |
| 臭氧水机组 | 570毫米（宽） x 850毫米（深） x 2000毫米（高） |
| 效用 | ・三相200V、・单相100V、・DIW、・冷却水、・清洁干燥空气、・氮气、・一般排气、・酸性排气、・碱性排气 |
|---|
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