CMP-4金相试样单盘自动磨抛机

CMP-4型自动磨抛机为双单台式磨抛机，跟据国际标准，采用国际工艺技术，研发制造一款单点加力的新型研磨抛光设备。(无电子比例阀，手动调压）
具备磨抛盘旋转方向可任意选择、磨抛盘可快速更换；多试样夹试器，同事具体气动单点加载功能。本机采用了微处理器控制系统，使得磨抛盘、磨抛头的转速实现无级可调，制样压力、时间设定直观、便捷。只需更换磨抛盘或者砂纸和织物即可完成磨、抛工序的操作。从而使本机展现了更加广泛的应用性。具有转动平稳、安全可靠、噪音低及采用铸铝底座增加了磨抛的刚性等特点。
本机磨头电磁锁自动落锁功能，安全便捷。带有水冷却装置，可以在研磨时对试样进行冷却，以防止因试样过热而破坏金相组织并随时将磨粒冲刷排走；再配以玻璃钢外壳和不锈钢标准件，在外观上更加美观大方，并提高了防腐、防锈性能且易清洁。
适用于对金相试样的粗磨、精磨、粗抛光至精抛光过程进行自动制样。是企业、科研单位以及大专院校实验室的理想制样设备。

主要技术指标：
磨抛盘直径：φ250mm（可订制φ230mm、φ300mm）
磨抛盘转速：50-1000 r/min（无极调速）以及300 / 600 / 900 r/min（3级定速）
磨抛盘转向：可调正反转选择
磨抛头转速：5-150 r/min（无极调速）
制备样数量：4个
输入气源：0.4-0.7Mpa
制 样 时间：0-3000 S
制样压力：单点20-70N   中心0-300N
试 样 直径：出厂标配φ30mm（可订制直径φ22-φ45mm）
输 入 电压：单相 AC220V 50Hz
输 入 功率：1.1KW
外 形 尺寸：550*760*640mm
净 重：60KG