CMSD2000-提高炭黑分散性的方法

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IKN研磨分散机能够实现自动控制，且操作简单方便，机器运行很稳定。机器的拆洗很方便，不存在任何死角，可以做到全面的清洗。

炭黑作为一种典型的纳米材料，原生粒子尺寸小(通常<100nm)、表面能高，极易聚集成较大的颗粒，很难稳定分散于不同体系中，限制了炭黑性能的充分发挥，影响到下游制品的质量和性能，成为炭黑应用的一大瓶颈。炭黑的分散主要受制于三个因素：炭黑本身的特性、载体或分散介质的类型、分散工艺和分散设备。

一种提高炭黑分散性的方法，其特征在于包括以下步骤：(1)在炭黑中加入结构控制剂；(2)将炭黑和结构控制剂均匀混合；(3)将混合料进行微纳米分散；(4)通过分级装置控制分散细度级别；(5)收集分级出来的炭黑即得高分散性炭黑。

炭黑的分散好不好重要的还是取决于分散剂和分散设备，大家都知道，炭黑额原生粒径都是＜100nm，则遇到液体之后就会形成团聚力，要想很好的将团聚力打开必须使用超高转速及剪切力的设备，依肯机械研磨分散机即可实现这一步，炭黑结构控制剂为纳米碳基材料。通过引入异质材料，一方面控制炭黑的结构(领苯二甲酸二丁酯吸收值)，改变炭黑的粒径分布，另一方面降低炭黑与炭黑粒子之间的接触面积，打破单一炭黑微粒之间的附聚平衡，降低炭黑颗粒之间的团聚力，提高炭黑的分散性能。

上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘。可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择） IKN研磨分散机可以高速研磨，分散，乳化，均质等功能，设备转速可达14000rpm，是目前国产设备转速的4-5倍。

从设备角度来分析，影响研磨分散机效果因素有以下几点：

1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）

2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）

5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

线速度的计算：

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)  
              g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

所以转速和分散头结构是影响分散的一个重要因素，超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是重要的

CMSD2000系列研磨分散机设备选型表

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%