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ERS2000-纳米氧化物粉体湿法粉碎机

  • 产地
  • 所在地
  • 德国
  • 上海上海市

更新时间:2020-09-10

有效日期:已过期

产品详情

  纳米氧化物粉体湿法粉碎机纳米铁粉浆料湿法研磨分散机,湿法高剪切粉碎机,纳米粉体批次式分散机,分散是至少两种互不相溶或者难以相溶且不发生化学反应的物质的混合过程。工业分散的目标是在连续相中实现“令人满意的”精细分布。 


  为了实现互不相溶相的分散,必须强力粉碎并混合其粒子。粉碎意味着必须克服表面张力的阻力来形成新表面。分散过程传递所需的能量,并保证两相均质混合。分散的*稳定性会受到确切粒度分布及乳化剂和稳定剂使用的影响。 

IKN提供转子-定子机械装置来确保ji佳
的分散效果、良好的清洁度和较长运行寿命。凭借这几项特点和易维护设计,转子-定子机械装置实现满意的成本/售价比。

 

纳米纳米金属粉体

 

   颗粒细化到纳米级后,其表面积累了大量的正、负电荷,纳米颗粒的形状极不规则,这样造成了电荷的聚集。纳米颗粒表面原子比例随着纳米粒径的降低而迅速增加,当降至1nm时,表面原子比例高达90%,原子几乎全部集中到颗粒表面,处于高度活化状态,导致表面原子配位数不足和高表面能。纳米颗粒具有很高的化学活性,表现出强烈的表面效应,很容易发生聚集而达到稳定状态,从而团聚发生
*纳米氧化物极易产生自身的团聚,使得应有的性能难以充分发挥。此外,纳米氧化物的诸多奇异性能能否得到充分发挥,还取决于之
大限度降低粉体与介质间的表面张力。因此,纳米氧化物粉体必须均匀分散,充分打开其团聚体,才能发挥其应有的奇异性能。

 纳米金属有效发挥作用的关键是确保其在溶液中获得适当的分散。分散设计越好,则有效性越好。

 

纳米金属分散机是

分层是分散相在外力(重力或离心力)作用下,在连续相中上浮或下沉的结果。在忽略布朗运动效应的静态条件下,可用Stokes 定律来描述,即分散相球形颗粒由于重力的沉降速度 V 由下式确定:

纳米铁粉浆料湿法研磨分散机,湿法粉碎机,湿法胶体磨,湿法研磨机 

式中

ρs -ρ为分散相与连续相的密度差,为重力加速度,为分散相颗粒直径,μ为连续相的粘度。如果分散相颗粒的密度比连续相密度大,颗粒下沉,速度 V 为正值,反之,颗粒上浮,速度为负值。沉降速度大,浆料就容易分层。如果要保持体系稳定,就必须降低沉降速度,对于特定的浆料可以通过减小分散相固体颗粒直径 d。因为只有当粒径减至连续相液体分子大小时,颗粒才能稳定、均匀地分散在液体中不发生分离。

通过以上的分析我们可以看出,要提高悬浮液的稳定性,分散相颗粒的粒径应尽量细小。但应该指出,根据前人所做的大量研究发现,随着颗粒粒度的减小,虽然颗粒由重力引起的分离作用变为次要的因素,但是由于颗粒之间的间距减小,颗粒之间的结合力(范德华力等)起到了重要决定性作用。另外,当颗粒直径小于某一细小尺寸时,此时,颗粒的布朗运动效应就不能忽略了,所以由于细小颗粒的布朗运动,而使得颗粒之间产生激烈地碰撞。若不加稳定剂,这些情况都会导致颗粒团聚,对体系的稳定是不利的。所以浆料的分散中,颗粒粒径并非越细越好,要视浆料的特性而定。分散就是要根据物料的特性与特点,减小分散相颗粒的粒度,使其分布于一个较窄的尺寸范围,并达到吸力与斥力的相互平衡,从而保证浆料体系的稳定。

 

影响分散乳化结果的因素有以下几点: 

1 分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)

2 分散头的剪切速率 (越大,效果越好)

3 分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

4 物料在分散墙体的停留时间,乳化分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

 

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

 

速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60

 

 

纳米金属分散机是参数

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

8000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

120000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到之大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

 纳米氧化物粉体湿法粉碎机纳米铁粉浆料湿法研磨分散机,湿法高剪切粉碎机,纳米粉体批次式分散机,分散是至少两种互不相溶或者难以相溶且不发生化学反应的物质的混合过程。工业分散的目标是在连续相中实现“令人满意的”精细分布。


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上海依肯机械设备有限公司

型:
生产厂家
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商家概况

主营产品:
乳化机,分散机,均质机,粉碎机,胶体磨,研磨机,粉液混合机,真空乳化机
公司性质:
生产厂家

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